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第134章 接受军方任务

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    苏砚醒来的时候,床的另一侧已经空了,摸着还带有余温的床铺,苏砚有些怅然若失。


    不过,洗漱完之后,她就已经恢复了常态。


    在去实验楼的路上,苏砚就被师兄江鸣半路劫走,直接去了卢教授的办公室。


    一进门,卢教授正在和曹主任喝着茶水闲聊,看到苏砚进来,曹主任立刻热情的起身打招呼。


    “小苏同志,好久不见啊!”


    苏砚点头笑着回应,“曹主任,我们好像也就几天没见吧?”


    “哎呀,小苏,你可不知道,我们部队通讯部上下研读了你给我们的《无线电通讯维修要领》,和《寒区升级收音方案》资料,简直醍醐灌顶,受益匪浅啊。


    我们对你真是想念的紧,这不,我受领导委托又来麻烦你出马,给我们解决问题来了。”


    苏砚客气的笑笑,有些不知道怎么回答,她们学生可以直接跨过老师接受外面的任务吗?


    她不太了解,就将目光调转到卢教授身上。


    卢兴德摸着下巴看着自己抢来的这个学生,越看越是满意,此刻接受到学生疑惑的目光,他起身解释道。


    “鉴于你出色的能力,这件事还跟你前一段日子创造出来的小型集成电路有关。这个任务还真的非你莫属。


    这是国家相信你的能力,你可别推辞啊!”


    苏砚心里有底,这才好奇问道,“是什么任务啊?”


    “上面希望将你的小规模集成电路量产,用于替代进口零散ic,优先保障军品供给。


    我们想将军用电台、仪器仪表等国防关键装备都更换上我们国产的集成电路。”


    这是好事啊!


    苏砚立刻眼睛放光,当即应允,“可以,什么时候开始?”


    曹主任闻言哈哈大笑,转头对卢兴德教授道,“教授,真不愧是您的学生,这性子就是急。我们想给你三天准备时间,你看够不?”


    “不用三天准备,我现在就可以走。”苏砚回道。


    革委会那边资料已经健全,却迟迟等不来回信,虽然听倪虹说,陆廷州已经查到了那个主任的把柄,将人弄下去又换了个主任,可按照正常流程来说,还要两三个月才能批复下来结果。


    还有一个多月就过年了,苏砚希望在一个月内搞定量产的事情,然后她就可以凭借军功,风风光光去乡下将养父养母接回来过年。


    看着苏砚亮闪闪的眼神,曹主任哈哈大笑,“行,那就现在走。不过,这次任务比较繁重,我们在京市光东工厂这边定下生产线后,还要去海城那边搞一条同样的生产线,你能出差吗?”


    “完全没问题。”苏砚点头回道。


    “行,那你现在就回去收拾东西,我就在这等着你。”曹主任也是个雷厉风行的人。


    苏砚回宿舍简单收拾了几件换洗衣物,仅仅十分钟后就返回。


    曹主任也没有二话,开车带着苏砚直奔国营光东工厂。


    在曹主任的陪伴下,这里没有任何人为难看起来就很年轻的苏砚,大家都客客气气接受她的指导。


    国营光东电工厂超净车间密闭无尘,恒温系统持续运转,滤尘设备发出细碎平稳的嗡鸣,消解了所有多余的声响。


    整间车间笼罩在半导体工艺专用的暖黄色安全灯下,褪去了刺眼的白光,只为保护光刻胶涂层不受光线干扰。


    空气里浮动着高纯氮气、光刻胶与有机溶剂交织的清冷淡味,每一寸空气都经过层层过滤,连飘落的微尘都近乎绝迹。


    身着全套白色洁净服的众人包裹得严严实实,头罩、口罩、无菌手套、无尘鞋缺一不可,只露出一双双凝神专注的眼睛,在暖黄灯光下熠熠生辉。


    苏砚伫立在光刻工艺操作台旁,身姿挺拔沉稳。


    连日扎根车间通宵调试,她的眼底藏着淡淡的青黑,眉眼间却没有半分疲态,只剩极致的专注与笃定。


    面前的操作台一尘不染,整齐摆放着待测试的硅片、精密镊子、刻度记录本与调试工具,页面上密密麻麻写满了迭代数百次的工艺参数。


    栅氧生长温度、扩散炉恒温时长、光刻对准误差、源漏掺杂配比,每一组数据都是她依托成熟的dtl双极工艺,反复推翻、反复调试摸索出的关键依据。


    身旁两名年轻技术员正俯身紧盯显微镜,反复核对刚出炉的pmos管芯切片,神情紧绷,眉宇间藏着一丝焦灼。


    这段时间,他们最大的难题始终是栅极边缘毛刺、局部掺杂不均,屡屡拉低硅片成品率,好几次即将成型的工艺参数,都因这两处瑕疵功亏一篑。


    年轻技术员压着心底的忐忑,轻声汇报,声音被口罩闷得低沉含糊。


    “苏工,这批试样还是老问题。光刻显影后,栅极线条边缘不够平滑,有细微毛刺,而且部分片区掺杂浓度偏差超标,达不到量产标准。


    我们按照原dtl工艺参数微调过几次,偏差反而更大。”


    苏砚闻言没有立刻开口责备,只是微微颔首,抬手微调显微镜焦距,动作轻柔稳当,力道精准分毫不差。


    她俯身凑近目镜,目光沉沉落在微小精密的管芯结构上,细细观察纹路、涂层与掺杂层次,几秒后便精准摸清了问题根源。


    她直起身,指尖轻点记录本上的两组核心参数,语气平稳温和,却带着不容置疑的专业底气,字字清晰、条理分明。


    “dtl是双极工艺,和我们现在攻坚的pmos工艺底层逻辑完全不同,不能直接套用老参数。


    双极工艺侧重电流放大,而pmos核心在栅氧层的均匀度和可控性,生搬硬套只会出现边缘畸变、掺杂失衡。”


    说着,她侧身让出操作台的位置,示意技术员上前实操观摩。


    暖黄灯光落在她洁净服肩头,沉稳的嗓音在机器嗡鸣中清晰传开,耐心拆解每一处操作细节。


    “接下来调整两组关键参数。第一,把氧化炉恒温区间上调三摄氏度,延长二十分钟恒温保持时间,让栅氧层生长得更均匀致密,从根源减少边缘毛刺。


    第二,降低离子注入速率,放慢掺杂进度,宁可慢一点,也要保证整片硅片的掺杂浓度均匀统一,杜绝局部偏差。”


    两名技术员连忙上前,一人紧盯仪器表盘记录参数,一人俯身核对显微镜下的管芯状态,紧绷的神经渐渐松弛。


    苏砚一边紧盯设备运行状态,一边趁热打铁,纠正团队固化的老工艺思维。


    “大家要记住,我们现在是在成熟的dtl工艺线上,硬生生开拓mos集成电路的量产路径,不是简单的参数微调,而是工艺体系的革新。


    以往进口零散ic参数杂乱、没有统一标准,我们现在每一次精准调试,都是在搭建属于我们自己的国产工艺规范。”


    她抬手拿起一片调试合格的硅片,举到灯光下,薄如蝉翼的硅片泛着清冷细腻的光泽,规整均匀的电路纹路清晰可见。


    “你们看,合格的pmos小规模集成电路,线条平直无毛刺、掺杂均匀无偏差,这就是我们要落地的量产标准。


    后续我们制定的逻辑ic、运算放大器国产规范,就要以这套工艺参数为基准,彻底摆脱对进口芯片的依赖,优先保障军用电台、精密仪器仪表的核心供给。”
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